標準列表
釩氮合金 硅、錳、磷、鋁含量的測定 電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.8-2009
摘 要：
GB/T 24583的本標準規(guī)定了電感耦合等離子體發(fā)射光譜法測定硅、錳、磷、鋁含量。本標準適用于釩氮合金中硅、錳、磷、鋁含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：硅：0.010%～1.00%；錳：0.010%～0.500%；磷：0.010%～0.500%；鋁：0.010%～1.00%。
釩氮合金 氧含量的測定 紅外線吸收法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.7-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了紅外線吸收法測定氧含量。本部分適用于釩氮合金中氧含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：0.10%～2.00%。
釩氮合金 硫含量的測定 紅外線吸收法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.6-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了紅外線吸收法測定硫含量。本部分適用于釩氮合金中硫含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：0.010%～0.150%。
釩氮合金 磷含量的測定 鉍磷鉬藍分光光度法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.5-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了鉍磷鉬藍光度法測定磷含量。本部分適用于釩氮合金中磷含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：0.010%～0.100%。
釩氮合金 碳含量的測定 紅外線吸收法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.4-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了紅外線吸收法測定碳含量。本部分適用于釩氮合金中碳含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：1.00%～15.00%。
釩氮合金 氮含量的測定 蒸餾-中和滴定法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.3-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了蒸餾－中和滴定法測定氮含量。本部分適用于釩氮合金中氮含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：5.00%～20.00%。
釩氮合金 氮含量的測定 惰性氣體熔融熱導(dǎo)法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.2-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了惰性氣體熔融熱導(dǎo)法測定氮含量。本部分適用于釩氮合金中氮含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：5.00%～20.00%。
釩氮合金 釩含量的測定 硫酸亞鐵銨滴定法
關(guān)鍵詞：GB/T 24583.1-2009
摘 要：
GB/T 24583的本部分規(guī)定了硫酸亞鐵銨滴定法測定釩含量。本部分適用于釩氮合金中釩含量的測定。測定范圍（質(zhì)量分數(shù)）：≥60.00%。
重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質(zhì)譜檢測方法
關(guān)鍵詞：GB/T 24580-2009
摘 要：
本標準規(guī)定了重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質(zhì)譜測試方法。本標準適用于二次離子質(zhì)譜法（SIMS）對重摻n型硅襯底單晶體材料中痕量硼沾污（總量）的測試。
酸浸取 原子吸收光譜法測定 多晶硅表面金屬污染物
關(guān)鍵詞：GB/T 24579-2009
摘 要：
本標準規(guī)定了用酸從多晶硅塊表面浸取金屬雜質(zhì)，并用石墨爐原子吸收定量檢測多晶硅塊表面上的痕量金屬雜質(zhì)分析方法。
熱解吸氣相色譜法測定硅片表面的有機污染物
關(guān)鍵詞：GB/T 24577-2009
摘 要：
本標準規(guī)定了硅片表面的有機污染物的定性和定量方法，采用氣質(zhì)聯(lián)用儀或磷選擇檢測器或者兩者同時采用。
高分辨率X射線衍射測量GaAs襯底生長的AlGaAs中Al成分的試驗方法
關(guān)鍵詞：GB/T 24576-2009
摘 要：
本標準規(guī)定了用高分辨X射線衍射測量GaAs襯底上AlGaAs外延層中Al含量的試驗方法。
本方法適用于在未摻雜GaAs襯底<001>方向上生長的AlGaAs外延層中Al含量的測定，使用本方法測量Al元素含量時，AlGaAs外延層厚度應(yīng)大于300nm。
