GB/T 24580-2009重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質譜檢測方法
中文名稱:重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質譜檢測方法
英文名稱:Test method for measuring Boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
標準號:GB/T 24580-2009
標準類型CN
發布日期:2009-10-30
實施日期:2010-6-1
摘要:本標準規定了重摻n型硅襯底中硼沾污的二次離子質譜測試方法。本標準適用于二次離子質譜法(SIMS)對重摻n型硅襯底單晶體材料中痕量硼沾污(總量)的測試。
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