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GB/T 19444-2004硅片氧沉淀特性的測定-間隙氧含量減少法

來源：標準在線網

中文名稱：硅片氧沉淀特性的測定-間隙氧含量減少法

英文名稱：Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

標準號：GB/T 19444-2004

標準類型CN

發布日期：2004-2-5

實施日期：2004-7-1

摘要：

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