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中文名稱：電子薄膜用高純鋁及鋁合金濺射靶材

英文名稱：High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film

標準號：GB/T 29658-2013

標準類型CN

發布日期：2013-9-6

實施日期：2014-5-1

摘要：

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