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GB/T 18682-2002物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件

中文名稱：物理氣相沉積TiN薄膜技術(shù)條件

英文名稱：Specifications of physical vapour deposition TiN films

標(biāo)準(zhǔn)號：GB/T 18682-2002

標(biāo)準(zhǔn)類型CN

發(fā)布日期：2002-3-10

實(shí)施日期：2002-8-1

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